超纯水(UPW)设施以及水清洗系统的颗粒监视和控制, 对越来越多类型的制造工业愈来愈重要. 例如,诸如平板显示器(FPD)和硬盘驱动器(HDD)部件的精密制造技术的改进要求能测出过程液体中小到0.1µm的污染物颗粒。

Ultrapure-100提供去离子水应用中0.1µm颗粒监测的完全集成化的方案. 无论您的要求是查找故障、监测或者是水清洗系统, 或者仅是在UPW厂的重要场所进行监测, Ultrapure-100是最理想的在线过程监测。

Ultrapure-100将所有坚固的光-机械装置、计数和通信电子线路以及独特的流量控制系统都结合在一台仪器里并达到无可相比的性能。在高液压的应用, 诸如去离子水设施监测, 总的系统流速会超过1.0升/分钟.这样就要求非常快的清洗和恢复时间以及优良的流量调节, 甚至是在动态的检测入口压力下也如此。

Ultrapure-100是一套完整的系统, 非常容易安装并与现有的设施监测系统(FMS)或楼宇管理系统( B M S ) 结合起来，另外Ultrapure-100能作为一台单独的仪器使用并能与许多软件包兼容。Ultrapure-100配套提供易于使用的基于Windows®的组态工具, 使安装和系统集成快速和方便. 诸如数据通道数量, 采样周期, 和4-20mA模拟输出设置能根据特别要求快速组态. 实时系统诊断保证日期完整性不会有问题. 标定完全可追溯到NIST标准。颗粒计数通常和总有机碳(TOC)测量互补,Anatel是半导体和平板显示器工业中TOC监测的行业标准. Anatel的TOC分析系统是由一系列模块化组件组成, 能按需组合用于任何水系统. 现在, 有了颗粒计数后, Anatel的仪器测量更进一步, 能保证增加您的高纯水传送系统的效率和产量。

 

● 0.1和0.2µm标准颗粒尺寸

● 可在0.1至5.0µm范围内定制

● 4-20mA模拟输出

● 高流速-清洗时间非常快

● 一体化方案, 维护量小

● 优秀的流量调节-“设置完了就可不管了”

● 激光源诊断

● 可提供颗粒计数软件